产品名称：真空腔体温度控制模块产品简介：该模块专门用于 Gasonics 等离子设备反应腔体的温度精确控制与稳定维持。通过对加热组件、冷却回路的实时调节，保证腔体在工艺过程中温度均匀、波动小，避免因温度变化导致工艺漂移、晶圆良率下降等问题。技术规格
- 控制温度范围：从室温至高温区间连续可调
- 控温方式：PID 闭环自动调节
- 支持传感器类型：PT100、热电偶等
- 加热输出功率：最高支持大功率加热
- 冷却方式：支持水冷或风冷接口功能特点
- 控温精度高，温度均匀性优异
- 升温、恒温、降温过程平稳，无剧烈波动
- 具备超温保护、传感器断线保护、加热故障报警
- 支持本地与远程温度设定，便于自动化集成
- 结构坚固，适应真空设备内部高温、辐射环境应用场景
- 高温等离子刻蚀与沉积工艺
- 晶圆热处理、表面改性工艺
- 真空镀膜、等离子清洗设备腔体恒温控制
- 对温度稳定性要求极高的先进半导体制程
Gasonics A93-021-04/C 
Gasonics 27-169988-00 
Gasonics 001-6300-03 
Gasonics A93-021-05/D 