AMAT 0041-12339

产品名称：气体分配喷淋头产品简介：该喷淋头是半导体 CVD 工艺腔室的核心部件，用于将反应气体均匀地分布到晶圆表面，确保晶圆各区域的薄膜沉积速率和厚度一致，是保...