• 产品名称：工艺气体混合器（Process Gas Mixer）
• 产品简介：该混合器是半导体工艺气体系统的核心部件，用于将多种工艺气体按设定比例精准混合，保障混合气体成分稳定，为半导体薄膜沉积、刻蚀等工艺提供符合要求的反应气体，是提升工艺均匀性与重复性的关键设备。
• 技术规格
  • 适配气体种类：最多 8 种，混合比例精度：±0.1%
  • 最大混合流量：10000sccm，工作压力：0-10bar
  • 输出信号：4-20mA，供电电压：24VDC，响应时间：≤1s
  • 材质：不锈钢 316L，接口类型：1/4 英寸卡套接头
• 功能特点
  • 采用静态混合技术，混合效率高，气体成分均匀，无分层现象
  • 具备自动配比与校准功能，可通过设备主控系统在线调整混合比例
  • 内置气体浓度监测模块，实时反馈混合气体成分，异常时触发报警
  • 耐腐蚀性强，适配半导体工艺中的各类腐蚀性气体
• 应用场景：广泛应用于 AMAT Centura、Endura 系列 CVD、PVD、刻蚀等半导体设备，用于控制反应气体、载气等的混合比例，适配 300mm 与 200mm 晶圆的制造工艺。