• 产品名称：射频电源匹配器（RF Power Match Network）
• 产品简介：该匹配器是 AMAT 射频系统的核心部件，连接射频功率源与工艺腔室，用于补偿工艺腔室负载的阻抗变化，使射频功率高效传输至等离子体，减少功率反射，保护射频电源，适配 13.56MHz 等主流射频频段，保障等离子体工艺稳定。
• 技术规格
  • 适配射频频率：13.56MHz，额定功率：3kW
  • 阻抗匹配范围：10Ω-500Ω，匹配速度≤100ms
  • 反射功率：≤1% 入射功率，当反射功率超 5% 时自动切断输出
  • 冷却方式：水冷，进水温度 20-30℃，流量≥5L/min
  • 工作环境：温度 0-40℃，湿度≤80% RH（无冷凝）
  • 接口：N 型射频接头，水冷接口 G1/4 螺纹
• 功能特点
  • 采用自动匹配算法，可实时跟踪负载阻抗变化，动态调节匹配参数
  • 具备过温、过压、过流、高反射功率保护功能，保障设备安全
  • 内置功率监测模块，可实时采集入射功率与反射功率数据
  • 适配多种工艺腔室负载，可通过参数设置适配不同工艺
• 应用场景：主要用于 AMAT Centura 系列刻蚀机、PECVD 设备的射频系统，适配半导体晶圆制造中硅刻蚀、氧化膜沉积等等离子体工艺，提升工艺稳定性与晶圆加工良率。