产品名称：等离子体腔体气体分配模块产品简介：用于 Gasonics 等离子设备的精密气体控制部件，实现工艺气体（O₂、N₂、Ar、CF₄等）的精确配比、稳定输送与快速切换，保障等离子体工艺的一致性与重复性。技术规格
- 气体通路：4–8 路独立气体通道
- 流量范围：0–500sccm（标准立方厘米每分钟）
- 控制精度：±1% FS（满量程）
- 材质：316L 不锈钢，内表面电解抛光（Ra≤0.25μm）
- 泄漏率：≤1×10⁻⁹ Pa・m³/s（氦质谱检漏）功能特点
- 采用质量流量控制器（MFC），流量控制精准稳定
- 支持气体自动配比与动态调节，适配复杂工艺需求
- 具备气体过滤功能，去除杂质，保护腔体与晶圆
- 模块化设计，支持快速插拔，维护便捷
- 符合 SEMI 安全标准，适配半导体洁净车间环境应用场景
- 半导体晶圆干法刻蚀、等离子增强化学气相沉积（PECVD）
- 平板显示（FPD）制造中的玻璃基板清洗与表面处理
- 太阳能电池片的等离子体掺杂与钝化
- 精密陶瓷、金属零件的等离子表面改性
Gasonics AE 2001 
Gasonics AWO-1-2 
Gasonics AWO-1-3 