产品名称：等离子设备气体流量控制模块产品简介：用于精确控制等离子处理工艺气体（如 O₂、Ar、CF₄等）的流量与配比，是保障工艺一致性的关键组件。技术规格
- 控制气体：惰性气体、反应性气体
- 流量范围：0–1000sccm（标准立方厘米 / 分钟）
- 控制精度：±1% F.S.
- 响应时间：<100ms
- 接口：标准 VCR 接头、模拟 / 数字控制信号功能特点
- 多气体通道集成，支持气体混合与切换
- 流量稳定，不受温度、压力波动影响
- 具备气体泄漏检测与报警功能
- 模块化设计，便于校准与更换应用场景
- 半导体等离子清洗、刻蚀、去胶工艺气体控制
- 薄膜沉积（如 PECVD）前驱体气体精确配比
- 微加工、表面改性工艺气氛控制
- 科研实验中多种气体组合的精确调控
Gasonics A93-021-04/C 
Gasonics 27-169988-00 
Gasonics 001-6300-03 
Gasonics A93-021-05/D 