产品名称：工艺气体压力稳定调节模块产品简介：本模块用于对进入等离子设备的工艺气体进行精确稳压与压力调节，确保气体在输送过程中压力恒定，不受前端气源波动影响，从而提升流量控制精度与工艺重复性。技术规格
- 压力调节范围：0–10bar
- 压力控制精度：高精度稳定输出
- 适用介质：惰性气体、反应性工艺气体
- 接触材质：高耐腐蚀合金与不锈钢
- 密封形式：无泄漏高等级密封功能特点
- 稳压响应快，压力波动极小
- 耐腐蚀结构，可长期使用在含氟、含氧气氛中
- 内置超压保护与泄压机制，提高系统安全性
- 无泄漏设计，满足半导体行业超高洁净要求
- 安装简便，维护量低，使用寿命长应用场景
- 等离子刻蚀、气相沉积设备气路稳压
- 高精密半导体工艺气体供给系统
- 实验室特种气体输送与压力控制
- 对气体稳定性要求极高的微电子制造工艺
Gasonics A93-021-04/C 
Gasonics 27-169988-00 
Gasonics 001-6300-03 
Gasonics A93-021-05/D 