• 产品名称：射频匹配网络
• 产品简介：该射频匹配网络是应用材料公司为半导体设备射频系统设计的核心部件，用于匹配射频电源与工艺腔体之间的阻抗，使射频功率高效传输至腔体，减少功率反射，保障等离子体的稳定产生，具备阻抗匹配精度高、响应速度快等特点，是射频系统高效运行的关键元件。
• 技术规格
  • 工作频率为 13.56MHz，适配半导体设备常用射频频段。
  • 输入功率容量为 3000W，可满足中高功率射频系统需求。
  • 阻抗匹配范围为 10-1000Ω，匹配精度为 ±5Ω，减少功率反射。
  • 响应时间小于 50ms，可快速适应负载变化，实现阻抗匹配。
  • 工作温度范围为 0-50℃，防护等级为 IP54，适应设备工作环境。
• 功能特点
  • 采用自动匹配技术，无需人工干预，可实时监测负载阻抗并调整匹配参数。
  • 具备功率反射监测功能，当反射功率超出设定值时，自动切断射频电源，保护设备。
  • 结构设计紧凑，安装便捷，适配多种型号的射频电源与工艺腔体。
  • 散热性能好，采用铝合金散热外壳，可快速散发工作过程中产生的热量。
  • 抗振动性能强，在设备运行过程中保持稳定，保障匹配精度。
• 应用场景：广泛应用于半导体等离子体刻蚀设备、等离子体增强化学气相沉积设备、感应耦合等离子体设备等，用于匹配射频电源与工艺腔体的阻抗，提升射频功率传输效率，保障等离子体的稳定产生，适配 200mm、300mm 晶圆的刻蚀与薄膜沉积工艺，提升工艺稳定性与晶圆良率。