• 产品名称：气体流量控制器（Mass Flow Controller, MFC）
• 产品简介：这是一款高精度质量流量控制器，用于精准控制半导体工艺中的特种气体流量，采用热式质量流量测量原理，可实现气体流量的快速调节与稳定控制，适配 AMAT 设备的气体面板系统，是工艺气体精确配比的核心部件。
• 技术规格
  • 流量范围：10sccm-5000sccm（适配 N₂标定，可转换其他气体）
  • 精度：±1% 满量程，重复性 ±0.2% 满量程
  • 响应时间：≤1s（从 0 到满量程）
  • 工作压力：0.1MPa-1.0MPa（表压）
  • 工作温度：10℃-50℃，介质温度：-20℃-80℃
  • 输出信号：4-20mA，通信接口：DeviceNet
• 功能特点
  • 支持多气体标定，内置多种工艺气体（如 SiH₄、NH₃、O₂等）的流量转换系数
  • 具备零点自动校准功能，长期使用无需频繁手动校准
  • 抗污染能力强，传感器腔体采用耐腐蚀材质，适配多种腐蚀性气体
  • 故障自诊断功能，可实时监测流量异常、温度异常等故障
• 应用场景：用于 AMAT 刻蚀、沉积设备的工艺气体流量控制，适配 200mm/300mm 晶圆制造的硅刻蚀、氧化、氮化等工艺，保障工艺气体配比精准，提升晶圆制造良率。