• 产品名称：工艺气体质量流量控制器（MFC）
• 产品简介：这是 AMAT 设备专用的气体流量控制部件，用于精准调节与控制工艺腔室的反应气体、载气等的流量，保障工艺过程中气体流量的稳定性与精准性，是半导体工艺中控制薄膜成分、厚度均匀性的关键设备。
• 技术规格
  • 流量范围：0-500sccm
  • 控制精度：±1% FS
  • 适配气体：氨气、硅烷、氧气、氩气等半导体常用工艺气体
  • 工作压力：0.1-0.5MPa
  • 工作温度：5-45℃
  • 供电电压：24VDC
  • 通信协议：PROFIBUS-DP
• 功能特点
  • 具备温度、压力补偿功能，保障不同工况下流量控制精度。
  • 响应速度快，流量调节时间≤1s，适配工艺参数快速切换需求。
  • 支持气体类型在线切换，适配多种工艺的灵活切换。
  • 具备流量异常报警功能，防止因气体流量异常导致工艺失败。
• 应用场景：适配 AMAT PECVD、ALD 等沉积设备，以及刻蚀设备的工艺气体控制系统，应用于 300mm、200mm 晶圆制造的薄膜沉积、刻蚀等工艺环节，精准控制工艺气体流量，广泛用于逻辑芯片、存储芯片制造中的介质层、金属层沉积制程，保障晶圆工艺良率。