产品名称：等离子体工艺腔室陶瓷聚焦环产品简介：专为半导体刻蚀与沉积设备设计的高精度陶瓷绝缘定位部件，用于约束等离子体分布、保护腔室内部结构并保证晶圆工艺均匀性。技术规格
- 材质：高纯度氧化铝陶瓷
- 尺寸：195mm 标准口径
- 表面处理：精密喷砂、无颗粒
- 适配机型：Centura DPS、HDP-CVD 等腔室功能特点
- 耐高温、耐等离子体冲刷，使用寿命长
- 几何精度高，保证等离子场均匀稳定
- 低释气、高洁净度，满足半导体制程要求
- 抗化学腐蚀，适配多种工艺气体环境应用场景
- 晶圆干法刻蚀工艺腔
- 高密度等离子体化学气相沉积
- 半导体前道制造设备维护与更换
AMAT 0200-09761 
AMAT 0200-08347 
AMAT 0200-00262 
AMAT 0190-36349 