产品名称：半导体设备真空腔体绝缘衬套组件产品简介：这是应用材料公司（AMAT）推出的原厂标准真空工艺腔体专用配件，是半导体制造设备真空腔体的核心辅助组件，专为真空工艺环境设计，实现电气绝缘与真空密封的双重核心需求，有效保护真空腔体结构，避免等离子体对金属腔体的溅射腐蚀，同时防止腔体内部真空泄漏，保障半导体制造真空工艺的稳定性与连续性，适配 AMAT 多款核心工艺腔体机型。技术规格：
- 核心基材：高纯度氧化铝陶瓷
- 密封配件：耐等离子体腐蚀氟橡胶密封件
- 尺寸精度：±0.01mm
- 长期工作温度：200℃
- 短时耐受温度：300℃
- 真空放气率：＜1×10⁻⁹ mbar・L/s
- 适配真空度：≤1×10⁻⁹ mbar
- 绝缘性能：真空环境下绝缘电阻≥10¹⁴ Ω
- 抗腐蚀等级：半导体工艺腔体防护一级功能特点：
- 采用陶瓷与橡胶复合精密成型工艺，结构密封性强，从根源避免真空腔体泄漏问题
- 高纯度氧化铝陶瓷基材具备优异的电气绝缘性能，隔绝真空环境下的电气传导，保护腔体金属结构
- 密封件与基材适配性高，耐等离子体溅射、抗高温老化，在严苛真空工艺环境下无变形、无开裂
- 尺寸精度控制严格，与配套腔体结构无缝对接，安装便捷且无需二次调试
- 整体组件低放气率，符合半导体超高真空工艺的环境要求，不影响腔体内部真空环境稳定性应用场景：
- 主要适配应用材料 Centura 系列刻蚀、沉积工艺腔体
- 应用于半导体 8 英寸、12 英寸晶圆制造的硅刻蚀、金属沉积、氧化物沉积等真空工艺环节
- 可作为半导体真空工艺腔体侧壁绝缘防护的核心配件，适用于等离子体刻蚀机、物理气相沉积设备、化学气相沉积设备的腔体结构改造与原厂备件替换
AMAT 0050-33303 
AMAT 0020-43681 
AMAT 0020-40222 
AMAT 0020-34112 