• 产品名称：真空腔室密封法兰组件
• 产品简介：专为半导体制造设备真空腔室设计的高密封性能法兰，用于腔室门体与腔体的连接密封，保障腔室内部真空环境稳定，适配 AMAT 多款刻蚀、沉积设备的真空腔体系统。
• 技术规格
  • 材质：316L 不锈钢主体 + 氟橡胶密封圈
  • 密封直径：250mm
  • 真空耐受度：10⁻⁹ Torr
  • 工作温度：-40℃~200℃
  • 连接方式：螺栓紧固式，适配 M12 螺栓，扭矩要求 25N・m
• 功能特点
  • 双重密封结构，密封圈采用嵌入式设计，防止真空泄漏，密封寿命达 5000 次开合
  • 法兰表面经过电解抛光处理，粗糙度 Ra≤0.2μm，减少颗粒吸附
  • 适配快速装卸机构，安装拆卸时间≤5 分钟，提升设备维护效率
• 应用场景：半导体晶圆刻蚀设备、PECVD 沉积设备、离子注入机等真空腔室的门体密封，尤其适用于需要高频维护的工艺腔室。