• 产品名称：气体质量流量控制器（MFC）
• 产品简介：用于半导体工艺的高精度气体流量控制设备，精准调节工艺气体（如硅烷、氨气、氧气等）的流量，适配 AMAT 多种沉积与刻蚀设备的气体输送系统。
• 技术规格
  • 流量范围：0~500 sccm
  • 精度：±1% FS
  • 响应时间：≤1s
  • 适配气体：SiH₄、NH₃、O₂、Ar 等半导体常用工艺气体
  • 工作压力：0.1MPa~0.5MPa
  • 通信协议：Modbus RTU
• 功能特点
  • 采用热式流量检测技术，不受气体温度与压力波动影响
  • 具备气体种类自动识别功能，支持 10 种以上工艺气体的参数预设
  • 内置故障诊断模块，实时监测流量异常与设备故障，报警响应时间≤0.5s
• 应用场景：半导体晶圆的 CVD（化学气相沉积）、ALD（原子层沉积）、刻蚀工艺，以及太阳能电池片的 PECVD 工艺设备。