• 产品名称：高精度真空压力传感器
• 产品简介：用于半导体设备真空腔室的压力监测核心部件，可实时采集腔室内部真空度数据并传输至设备控制系统，适配 AMAT 刻蚀、沉积、离子注入等各类真空工艺设备，测量范围覆盖粗真空至超高真空区间。
• 技术规格
  • 测量范围：10⁻¹¹ Torr~10³ Torr
  • 测量精度：±0.1% FS
  • 输出信号：4-20mA 模拟信号 + RS485 数字信号
  • 响应时间：≤50ms
  • 工作温度：-30℃~120℃
  • 安装接口：KF40 真空法兰
  • 供电电压：DC 24V，功耗≤5W
• 功能特点
  • 采用电容式传感技术，抗干扰能力强，可抵御等离子体电磁干扰
  • 具备自动校准功能，校准周期可达 1 年，减少人工维护成本
  • 内置过压保护模块，可承受 10⁵ Pa 瞬时压力冲击，保护传感器核心部件
  • 支持多量程自动切换，适配腔室抽真空、工艺运行、破真空等不同阶段压力监测
• 应用场景：半导体真空工艺腔室的压力实时监测，包括刻蚀设备的反应腔、沉积设备的工艺腔、离子注入机的真空靶室等，适配 200mm 与 300mm 晶圆的先进制程生产。