• 产品名称：工艺腔室石英屏蔽环
• 产品简介：安装在半导体工艺腔室内部的石英防护部件，用于保护腔室壁面免受等离子体与工艺气体侵蚀，同时引导等离子体均匀分布，适配 AMAT 200mm 晶圆刻蚀与沉积设备的工艺腔室。
• 技术规格
  • 材质：高纯合成石英，纯度 99.999% SiO₂
  • 尺寸：外径 280mm，内径 200mm，厚度 15mm
  • 耐温性能：≤1200℃
  • 抗等离子体性能：可耐受 1000W 等离子体功率长期侵蚀
  • 安装方式：卡扣式，适配腔室内壁环形安装槽
• 功能特点
  • 石英材质化学稳定性强，不与氟基、氯基工艺气体发生反应，无杂质污染
  • 表面经过精密抛光处理，等离子体反射均匀，晶圆工艺均匀性提升 5%
  • 热膨胀系数低，在高低温工艺环境下不易变形，使用寿命达 3000 小时
  • 模块化设计，单环损坏可单独更换，维护成本降低 40%
• 应用场景：200mm 晶圆的等离子体刻蚀、溅射沉积工艺腔室，尤其适用于功率半导体、化合物半导体生产中对腔室洁净度要求高的工艺环节，如氮化镓、碳化硅器件的刻蚀与沉积。