• 产品名称：射频匹配网络（RF Match Network）
• 产品简介：该部件是半导体等离子体工艺设备的核心组件，用于匹配射频电源与工艺腔室之间的阻抗，使射频能量高效传输至等离子体中，减少能量反射，保障等离子体刻蚀、沉积等工艺的稳定进行。
• 技术规格
  • 适配功率：0-15kW，工作频率：13.56MHz
  • 阻抗匹配范围：5-500Ω，匹配速度：≤50ms
  • 输入接口：N 型射频接口，输出接口：CF35 真空法兰
  • 工作电压：220VAC，冷却方式：水冷
  • 防护等级：IP54，重量：12kg
• 功能特点
  • 采用自动匹配算法，可实时动态调整阻抗，适配负载的快速变化
  • 内置功率检测与反射保护模块，反射功率超过设定值（默认 5%）时自动切断射频输出
  • 支持本地与远程两种控制模式，可与设备主控系统实时通信
  • 具备过流、过压、过热保护功能，延长设备使用寿命
• 应用场景：主要用于 AMAT 刻蚀机、CVD、PVD 等等离子体工艺设备，适配 Endura、Centura 系列机型，保障硅刻蚀、金属沉积等工艺的稳定执行。