• 产品名称：工艺腔室内衬环（Chamber Liner Ring）
• 产品简介：该部件是半导体工艺腔室的重要防护与辅助结构件，安装在腔室内壁，用于阻挡工艺过程中产生的溅射沉积物附着在腔室壁上，同时辅助工艺气体均匀分布，保障腔室清洁与工艺稳定性。
• 技术规格
  • 适配腔室型号：AMAT Centura 200mm CVD 腔室
  • 材质：高纯石英，内径：220mm，外径：280mm，厚度：15mm
  • 耐受温度：1000℃，耐受压力：0-10Torr
  • 适配工艺：硅 dioxide、氮化硅等介质薄膜沉积
• 功能特点
  • 高纯石英材质纯度达 99.999%，减少杂质污染工艺环境
  • 表面经过抛光处理，降低沉积物附着力，便于清洁维护
  • 特殊环形结构设计，可引导工艺气体形成均匀的环形气流
  • 热稳定性好，在高温工艺环境下无变形、无开裂
• 应用场景：用于 AMAT Centura 系列 200mm CVD 设备的工艺腔室，适配氧化、氮化等薄膜沉积工艺，有效延长腔室主体的使用寿命，降低维护成本。