• 产品名称：气体质量流量控制器（MFC）
• 产品简介：这是一款高精度的气体流量控制装置，专为半导体工艺设计，可精准控制反应气体的流量，确保工艺腔室内气体浓度稳定，是保障半导体薄膜沉积、刻蚀等工艺质量的关键部件。
• 技术规格
  • 适配气体：硅烷、氨气、氧气等多种半导体工艺气体
  • 流量控制范围：0-500sccm，流量精度：±0.5% 满量程
  • 输出信号：4-20mA 模拟信号，供电电压：24VDC
  • 工作压力：0-10bar，响应时间：≤1s
  • 接口类型：1/4 英寸卡套接头，防护等级：IP65
• 功能特点
  • 采用热式质量流量测量原理，测量精度高，不受气体温度、压力变化影响
  • 具备自动校准功能，用户可通过设备主控系统进行在线校准
  • 内置过流保护与泄漏检测功能，保障气体输送安全
  • 支持多种通信协议，可与 AMAT 设备主控系统无缝对接
• 应用场景：广泛应用于 AMAT Centura、Endura 系列 CVD、PVD、刻蚀等半导体设备，用于控制反应气体、载气等的流量，适配逻辑芯片、存储芯片等半导体器件的制造工艺。