• 产品名称：工艺腔室石英盖板（Quartz Chamber Cover）
• 产品简介：该部件是半导体等离子体工艺腔室的顶部密封与防护组件，采用高纯石英材质制造，用于密封腔室顶部，同时为工艺过程提供稳定的真空环境，阻挡等离子体与工艺副产物侵蚀腔室顶部结构，保障工艺稳定性与腔室洁净度。
• 技术规格
  • 适配腔室型号：AMAT Endura 300mm PVD 腔室，材质：高纯石英（纯度 99.999%）
  • 直径：350mm，厚度：20mm，耐受温度：900℃
  • 耐受压力：1×10^-9 Torr 至 1atm，表面粗糙度：Ra≤0.1μm
  • 适配工艺：金属薄膜沉积、金属刻蚀等等离子体工艺
• 功能特点
  • 高纯材质避免杂质引入工艺环境，保障晶圆加工质量
  • 耐高温性能优异，在高温工艺中无变形、无开裂，热稳定性强
  • 表面光滑，减少工艺副产物附着，便于清洁维护，延长使用寿命
  • 精准的尺寸公差设计，与腔室法兰完美适配，密封性能可靠
• 应用场景：适配 AMAT Endura 系列 300mm PVD 设备的工艺腔室，用于铝、铜等金属薄膜沉积工艺，保障腔室真空度与工艺稳定性，降低维护频率。