• 产品名称：射频电源（RF Generator）
• 产品简介：该电源是半导体等离子体工艺设备的核心能量供应部件，用于产生稳定的射频能量，激发工艺腔室内的反应气体形成等离子体，为刻蚀、沉积等工艺提供能量，保障等离子体密度稳定，是工艺顺利进行的关键设备。
• 技术规格
  • 输出功率：0-10kW，工作频率：13.56MHz，功率稳定性：±0.1%
  • 输入电压：三相 380VAC，输出阻抗：50Ω，冷却方式：水冷
  • 工作温度：0℃至 45℃，防护等级：IP54，通信接口：EtherCAT
  • 适配腔室：AMAT Centura 300mm 刻蚀腔室
• 功能特点
  • 采用数字控制技术，输出功率精准稳定，等离子体密度可控
  • 内置功率检测模块，实时监测输出功率，异常时自动调整或切断输出
  • 具备过流、过压、过热保护功能，避免电源损坏与腔室故障
  • 与射频匹配器无缝协同，能量传输效率高，反射功率低
• 应用场景：用于 AMAT Centura 系列 300mm 刻蚀机、CVD 设备，适配硅刻蚀、金属沉积等工艺，保障等离子体工艺的稳定进行，提升晶圆加工质量。