• 产品名称：真空腔体法兰（Vacuum Chamber Flange）
• 产品简介：该法兰是半导体真空工艺设备的核心连接部件，用于连接真空腔室与管道、腔室与腔室之间的接口，保障真空系统的密封性，防止真空泄漏，为半导体工艺提供稳定的真空环境，是真空设备的重要组成部分。
• 技术规格
  • 规格：CF100，材质：不锈钢 316L，密封面：铜垫密封
  • 直径：150mm，厚度：20mm，耐受压力：1×10^-10 Torr 至 1atm
  • 工作温度：-30℃至 200℃，安装螺栓数量：8 个，螺栓规格：M12
• 功能特点
  • 不锈钢 316L 材质耐腐蚀，适配半导体真空环境，使用寿命长
  • 铜垫密封设计，密封性能可靠，拆卸后可重复使用
  • 精准的尺寸公差，与腔体接口完美适配，安装便捷
  • 表面经钝化处理，减少颗粒污染，符合半导体洁净要求
• 应用场景：用于 AMAT Endura、Centura 系列真空工艺设备，适配腔室与真空管道、腔室与腔室的连接，保障刻蚀、沉积等真空工艺的稳定进行。