• 产品名称：真空腔室气动闸阀
• 产品简介：该阀门是 AMAT 真空工艺设备的核心隔离部件，用于精准控制工艺腔室与传送腔室、真空管路的通断，可快速切换腔室真空状态，适配 300mm 晶圆刻蚀、沉积设备的真空系统，对保障工艺腔室的超高真空环境与工艺稳定性具有不可替代的作用。
• 技术规格
  • 通径尺寸：120mm，适配标准晶圆传送通道
  • 真空密封等级：泄漏率≤1×10^-11 Torr・L/s，保障腔室超高真空环境
  • 适配真空范围：10^5 Torr 至 10^-10 Torr，覆盖大气到超高真空全区间
  • 阀体材质：316L 不锈钢，密封件采用全氟醚橡胶（FFKM）
  • 开关响应时间：≤0.6 秒，快速实现真空隔离
  • 工作压力：0-1.0MPa，适配气动控制系统压力需求
  • 工作温度范围：-40℃至 200℃，适配高低温工艺环境
• 功能特点
  • 采用双密封结构设计，主密封与备用密封协同工作，即使主密封失效，备用密封仍能维持基础真空度，提升工艺安全性
  • 内置位置反馈传感器，实时反馈阀门开关状态，数据同步至设备主控系统，便于远程监控
  • 阀板采用流线型设计，减少气体流动阻力，降低腔室压力波动
  • 具备过压保护功能，腔室压力异常时自动关闭阀门，保护工艺腔室与内部部件
• 应用场景：适配 AMAT Centura、Endura 系列刻蚀与沉积设备，用于工艺腔室与传送腔室的真空隔离，应用于 300mm 晶圆的等离子体刻蚀、PECVD 沉积等工艺，尤其适用于先进工艺节点中对真空环境要求严苛的超薄薄膜沉积与高深宽比刻蚀环节。