• 产品名称：CMP 抛光液输送与分配系统
• 产品简介：该系统是 AMAT Reflexion 系列 CMP 设备的核心辅助系统，用于抛光液的储存、输送、过滤与精准分配，保障抛光液浓度与流量稳定，适配不同类型抛光液，是提升晶圆抛光平整度与一致性的关键设备。
• 技术规格
  • 抛光液储存容量：50L，具备恒温控制功能，温度控制范围 20℃ - 25℃
  • 输送流量范围：0-500ml/min，流量调节精度 ±1ml/min
  • 过滤精度：0.1μm，去除抛光液中微小颗粒杂质
  • 材质：储存罐与管路采用 PTFE 材质，耐腐蚀，适配酸性与碱性抛光液
  • 分配通道数量：4 路独立分配通道，适配多抛光头设备
  • 工作压力：0.1MPa - 0.3MPa，保障输送稳定
  • 控制方式：支持自动与手动两种模式
• 功能特点
  • 内置搅拌装置，防止抛光液中磨料沉淀，保障浓度均匀
  • 流量与压力实时监测，参数异常时自动报警并切换备用系统
  • 可精准控制每路分配通道流量，适配不同抛光区域需求
  • 具备抛光液回收功能，减少浪费，降低成本
• 应用场景：专门用于 AMAT Reflexion 系列 CMP 设备，适配逻辑芯片、存储芯片制造中的晶圆全局平面化抛光工艺，尤其适用于 14nm 以下先进工艺中铜互连层与介质层的抛光，保障晶圆表面平整度与厚度均匀性。