• 产品名称：工艺气体质量流量控制器（MFC）
• 产品简介：该控制器是 AMAT 半导体设备气体输送系统的核心部件，用于精准控制单一工艺气体的流量，适配多种腐蚀性与惰性气体，可与气体歧管组件协同工作，保障工艺气体流量的稳定性与重复性，是半导体薄膜沉积与刻蚀工艺的关键控制组件。
• 技术规格
  • 适配气体类型：H2、O2、N2、Ar、CF4、SF6 等半导体常用工艺气体
  • 流量范围：0-5000sccm，流量调节精度 ±0.5% 满量程
  • 工作压力：0.1MPa - 0.5MPa，适配气体输送系统压力
  • 材质：阀体采用 316L 不锈钢，密封件为全氟醚橡胶
  • 响应时间：≤1s，快速适配流量调节需求
  • 工作温度范围：0℃至 50℃，适配气体柜环境
  • 输出信号：4-20mA 模拟信号，支持流量数据实时反馈
• 功能特点
  • 采用热式质量流量测量原理，测量精度高，不受气体压力与温度变化影响
  • 具备流量校准功能，可通过设备主控系统完成在线校准
  • 支持多组流量参数存储，可快速切换不同工艺的气体流量设置
  • 具备泄漏检测功能，气体泄漏时立即触发报警，保障工艺安全
• 应用场景：适配 AMAT Centura、Endura 系列刻蚀与沉积设备，应用于 300mm 晶圆制造中的 CVD、PVD、刻蚀等工艺，保障逻辑芯片、功率器件、MEMS 传感器等产品生产中工艺气体的精准控制，提升产品良率与一致性。