• 产品名称：CMP 抛光液供给泵
• 产品简介：该泵是 AMAT Reflexion 系列 CMP 设备的核心辅助部件，专为抛光液的稳定输送设计，适配酸性、碱性等不同类型的抛光液，能精准控制抛光液的输送流量与压力，保障晶圆抛光过程中抛光液的均匀供给，是提升晶圆抛光平整度的关键组件。
• 技术规格
  • 流量范围：0-200ml/min，流量调节精度 ±1ml/min
  • 工作压力：0-0.3MPa，压力稳定精度 ±0.01MPa
  • 材质：泵体采用 PTFE 材质，耐腐蚀，适配多种抛光液
  • 电机功率：0.5kW，工作效率≥80%
  • 工作温度范围：5℃至 40℃，适配抛光液存储温度
  • 防护等级：IP54，适配工业洁净环境
  • 使用寿命：≥5000 小时连续运行
• 功能特点
  • 采用变频控制技术，可根据抛光工艺需求自动调节流量与压力
  • 内置流量与压力监测模块，参数异常时立即触发报警，保障供给稳定性
  • 低脉动输送设计，避免抛光液输送过程中产生气泡，影响抛光效果
  • 安装与维护便捷，无需专用工具即可完成拆卸与更换
• 应用场景：专门用于 AMAT Reflexion 系列 CMP 设备，适配逻辑芯片、存储芯片制造中的晶圆全局平面化抛光工艺，尤其适用于 14nm 以下先进工艺中铜互连层与介质层的抛光过程，保障晶圆表面的超高平整度。