• 产品名称：工艺气体过滤器
• 产品简介：该过滤器是半导体工艺气体输送系统的关键净化部件，用于去除工艺气体中的微小颗粒杂质和水分，保障进入反应腔室的气体纯度，避免杂质影响晶圆工艺质量，适配应用材料各类半导体工艺设备的气体输送管路，是半导体制造中保障工艺稳定性的重要前置部件。
• 技术规格：
  • 过滤精度可达 0.01μm，可有效去除气体中的微小颗粒杂质。
  • 适用气体类型包括惰性气体、反应性气体等多种半导体工艺气体。
  • 工作压力范围 0-15bar，满足不同工艺气体的输送压力要求。
  • 工作温度范围 - 10℃至 60℃，适配气体输送管路的温度环境。
  • 流量容量根据型号不同，最大可达 5000sccm，适配不同流量需求的工艺。
  • 外壳材质为 316L 不锈钢，具备良好的耐腐蚀性和密封性。
• 功能特点：
  • 滤芯采用折叠式设计，过滤面积大，容尘量高，延长滤芯更换周期。
  • 具备压差监测接口，可实时监测滤芯堵塞情况，提醒及时更换。
  • 密封结构采用 PTFE 材质密封圈，密封性能优异，无气体泄漏。
  • 安装拆卸方便，便于日常维护和滤芯更换。
• 应用场景：安装在半导体工艺设备的气体输送管路前端，如沉积、刻蚀设备的工艺气体入口处，用于净化 SiH4、TEOS、O2 等工艺气体，保障进入反应腔室的气体纯度，提高半导体器件的制造质量。