• 产品名称：半导体工艺尾气处理系统催化净化器
• 产品简介：这是应用材料专为半导体工艺尾气设计的催化净化设备，用于去除尾气中的有害气体和颗粒杂质，如氟化物、氯化物、硅烷等，降低尾气对环境的污染，适配半导体制造过程中各类工艺设备的尾气排放系统，是半导体工厂环保达标排放的关键设备。
• 技术规格：
  • 处理气体流量范围 100-5000sccm，适配不同产能设备的尾气排放需求。
  • 催化效率高达 99.9%，可有效去除尾气中的有害成分，符合国家环保排放标准。
  • 工作温度范围 200℃至 600℃，通过高温催化反应分解有害气体。
  • 催化剂使用寿命可达 8000 小时，减少更换频率，降低使用成本。
  • 耐受压力范围 - 0.1bar 至 1bar，适配尾气排放管路的压力环境。
  • 外壳材质为 316L 不锈钢，耐腐蚀性能强，适配尾气中的腐蚀性成分。
• 功能特点：
  • 采用贵金属催化剂，催化活性高，反应速度快，处理效率稳定。
  • 具备温度自动控制功能，根据尾气成分和流量调节催化温度，保障净化效果。
  • 内置温度、压力监测传感器，实时监测设备运行状态，及时预警故障。
  • 结构设计紧凑，占地面积小，便于安装在工厂尾气处理管路中。
  • 具备自动吹扫功能，定期清洁内部管路，防止催化剂堵塞。
• 应用场景：应用于半导体刻蚀、沉积、离子注入等工艺设备的尾气处理，如干法刻蚀设备的 CF4、SF6 尾气处理，CVD 设备的 SiH4 尾气处理等，适配半导体工厂的 200mm、300mm 晶圆生产线，保障工厂尾气达标排放。