• 产品名称：半导体工艺气体质量流量控制器（MFC）
• 产品简介：作为半导体工艺气体输送系统的核心部件，该 MFC 用于精准控制工艺气体的流量，适配应用材料各类沉积、刻蚀设备，能根据工艺需求精确调节气体流量，保障晶圆表面工艺气体浓度均匀，是影响半导体工艺质量的关键部件之一，适配多种半导体常用工艺气体。
• 技术规格：
  • 流量测量范围 0-5000sccm，满足不同工艺气体流量需求。
  • 流量控制精度 ±0.5% 满量程，保障流量控制的精准性。
  • 适配气体类型包括 SiH4、NH3、O2、Ar、CF4 等腐蚀性和惰性气体。
  • 工作压力范围 0-5bar，适配不同工艺的压力环境。
  • 响应时间小于 2 秒，可快速适应工艺参数变化。
  • 输出信号为 4-20mA 模拟信号，便于与设备控制系统对接。
• 功能特点：
  • 采用热式质量流量测量原理，测量精度高，不受气体压力、温度变化影响。
  • 具备气体种类自动识别功能，可适配不同工艺气体，无需手动调整参数。
  • 内置流量异常报警功能，当流量超出设定范围时，及时触发报警，保障工艺安全。
  • 具备自诊断功能，可实时监测自身工作状态，及时预警故障。
  • 结构设计便于安装和维护，可快速拆卸清洁，延长使用寿命。
• 应用场景：安装在半导体沉积设备的工艺气体入口、刻蚀设备的反应气体供给管路等部位，适配 200mm、300mm 晶圆生产线，用于氧化硅沉积、金属刻蚀等工艺，保障工艺气体流量稳定，提升半导体器件制造良率。