• 产品名称：半导体射频阻抗匹配网络组件
• 产品简介：该组件是应用材料半导体射频系统的核心部件，适配 Centura 等系列刻蚀、沉积设备，用于快速匹配射频源与工艺腔室负载的阻抗，最大限度减少射频能量反射，保障射频能量高效传输，维持等离子体稳定激发，是保障工艺一致性的关键部件，适配 13.56MHz 等主流射频频率。
• 技术规格：
  • 工作频率范围 13.56MHz，适配半导体刻蚀、沉积设备常用射频频率。
  • 阻抗匹配范围 5Ω 至 500Ω，可快速响应负载阻抗变化。
  • 匹配速度小于 50ms，保障等离子体快速稳定。
  • 输入功率容量可达 3000W，满足高功率工艺需求。
  • 驻波比小于 1.1，减少射频能量反射损耗。
  • 通信接口兼容 EtherCAT 协议，可与设备控制系统实时联动。
• 功能特点：
  • 具备自动匹配功能，实时跟踪负载阻抗变化，无需人工干预。
  • 内置功率监测模块，可实时监测输入输出功率，数据上传至控制系统。
  • 采用空气介质可变电容，调节精度高，使用寿命长。
  • 具备过功率保护功能，当反射功率超出设定值时，自动切断射频输入。
  • 结构设计紧凑，安装空间小，适配设备腔室周边狭小安装环境。
• 应用场景：应用于半导体干法刻蚀设备的等离子体激发系统、PECVD 设备的射频电极供电系统，适配 200mm、300mm 晶圆生产线，保障刻蚀速率均匀性、沉积薄膜质量一致性等关键工艺指标，提升半导体器件制造良率。