• 产品名称：半导体工艺气体流量传感器组件
• 产品简介：该组件是半导体工艺气体输送系统的关键检测部件，用于实时监测工艺气体流量，适配应用材料各类沉积、刻蚀设备，能精准采集气体流量数据并反馈至控制系统，保障工艺气体流量稳定，采用热式测量原理，不受气体压力、温度变化影响，是提升工艺质量的重要检测部件。
• 技术规格：
  • 测量范围 0-2000sccm，满足不同工艺气体流量测量需求。
  • 测量精度 ±0.2% 满量程，保障流量数据精准。
  • 适配气体类型包括 SiH4、NH3、O2、Ar 等腐蚀性和惰性气体。
  • 输出信号为 4-20mA 模拟信号，便于与设备控制系统对接。
  • 工作压力范围 0-5bar，适配工艺管路压力环境。
  • 工作温度范围 - 10℃至 50℃，适应设备工作环境。
• 功能特点：
  • 采用热式质量流量测量原理，测量结果不受气体压力、温度变化影响。
  • 响应时间小于 1 秒，可快速反馈流量变化，保障工艺参数及时调整。
  • 内置流量异常报警功能，当流量超出设定范围时，触发报警信号。
  • 结构设计便于安装和维护，可快速拆卸清洁，延长使用寿命。
  • 具备良好的抗干扰能力，减少电磁信号对测量结果的影响。
• 应用场景：安装在半导体沉积设备的工艺气体入口管路、刻蚀设备的反应气体供给支路，适配 200mm、300mm 晶圆生产线，用于氧化硅沉积、金属刻蚀等工艺，实时监测气体流量，保障工艺过程中气体流量稳定，提升半导体器件制造质量。