• 产品名称：涡轮分子泵总成
• 产品简介：该涡轮分子泵总成是应用材料公司推出的高真空获取设备，专为半导体制造设备的真空腔体设计，可快速将腔体压力降至工艺所需的高真空或超高真空状态，具备抽速大、极限真空度高、运行稳定等特点，是保障半导体工艺在真空环境下进行的核心真空部件之一。
• 技术规格
  • 极限真空度可达 10⁻¹⁰Pa，满足半导体高真空工艺的严格要求。
  • 额定抽速为 300L/s（针对氮气），能快速实现腔体的真空抽气。
  • 适配电源为 AC 220V，频率 50/60Hz，额定功率为 500W，能耗较低。
  • 工作温度范围为 0℃至 40℃，采用水冷散热方式，散热效率高。
  • 接口采用 ISO 100 标准法兰，适配半导体设备真空腔体的连接标准。
• 功能特点
  • 采用复合分子泵设计，兼具涡轮泵与牵引泵的优势，抽气效率高，对不同气体适应性强。
  • 具备转速监测、温度监测、过流保护等功能，实时监控泵体运行状态，异常时自动报警并停机。
  • 运行噪音小于 60dB，减少设备运行噪音污染，改善工作环境。
  • 启动时间小于 3 分钟，能快速达到额定转速，缩短工艺准备时间。
• 应用场景：广泛应用于半导体制造的各类高真空工艺设备，如刻蚀腔体、沉积腔体、真空传输腔体等，为物理气相沉积、化学气相沉积、等离子体刻蚀等工艺提供所需的高真空环境，防止外界气体进入腔体影响工艺质量，适配 200mm、300mm 晶圆的制造设备。