• 产品名称：射频匹配器组件
• 产品简介：属于 AMAT 半导体设备中的射频系统关键部件，用于调节射频功率源与负载之间的阻抗匹配，使射频功率能够高效、稳定地传输到工艺腔体，保障等离子体工艺的正常进行。
• 技术规格
  • 工作频率：13.56 MHz，符合半导体等离子体工艺常用的射频频率标准。
  • 功率容量：最大可承受 10 kW 的射频功率，适配中高功率工艺需求。
  • 阻抗调节范围：可在较宽的阻抗范围内进行调节，匹配精度高。
  • 控制方式：支持自动和手动两种控制模式，自动模式下可快速响应负载阻抗变化。
  • 工作环境：适应真空及腐蚀性气体环境，防护等级高。
• 功能特点
  • 具有快速阻抗匹配能力，能够在毫秒级时间内完成匹配调节，确保工艺稳定性。
  • 具备过功率、过温等多种保护功能，避免因异常工况损坏设备。
  • 匹配效率高，减少射频功率的反射损耗，提高能源利用率。
  • 可实时监测匹配状态和相关参数，并将数据反馈给设备控制系统，便于工艺监控和故障排查。
• 应用场景：广泛应用于 AMAT 的 Centura、Endura 等系列的等离子体蚀刻、沉积设备中，适配 200mm 和 300mm 晶圆的制造工艺。