• 产品名称：气体流量控制器
• 产品简介：用于精确控制半导体工艺中各种反应气体、载气的流量，确保工艺过程中气体流量的稳定性和准确性，从而保证晶圆的加工质量和工艺重复性。
• 技术规格
  • 流量测量范围：0-500 sccm，可根据工艺需求选择不同的量程规格。
  • 流量控制精度：±1% 满量程，测量精度高，满足高精度工艺要求。
  • 响应时间：小于 1 秒，能够快速响应流量调节指令。
  • 工作压力：0.1-1 MPa，适配不同的气体输送压力条件。
  • 通信接口：支持 RS485、PROFIBUS 等多种工业通信协议，便于与设备控制系统集成。
• 功能特点
  • 采用质量流量测量原理，不受气体温度、压力变化的影响，测量结果准确可靠。
  • 具备自动校准功能，可定期对流量测量精度进行校准，保证长期使用的准确性。
  • 支持多种气体的流量控制，可通过设备控制系统进行气体类型和参数的设置。
  • 具有流量超限报警功能，及时提醒操作人员处理异常情况。
• 应用场景：应用于半导体晶圆制造的沉积、蚀刻、清洗等工艺环节，精确控制各种工艺气体的流量，适配 AMAT 的各类半导体设备。