• 产品名称：射频功率分配器
• 产品简介：这是一款应用于半导体等离子体工艺设备的射频功率分配部件，能够将单个射频功率源输出的功率精准分配到多个负载端，保障多个工艺工位或腔体的射频能量稳定供给，适配 AMAT 多腔体集成式半导体设备。
• 技术规格
  • 工作频率：13.56 MHz，符合半导体射频工艺的主流频率标准。
  • 功率容量：最大可承受 5 kW 射频功率，适配中高功率工艺需求。
  • 功率分配比：支持 1:2 等比例分配，分配精度误差小于 ±1%。
  • 输入输出接口：N 型标准射频接口，适配常用射频传输线缆。
  • 驻波比：≤1.1，减少功率反射，保证功率传输效率。
  • 工作温度：-20℃至 60℃，适应设备电气仓的工作环境。
• 功能特点
  • 功率分配精度高，确保各负载端获得均衡稳定的射频功率，保障工艺一致性。
  • 具备低插入损耗特性，减少功率在分配过程中的损耗，提升能源利用率。
  • 结构坚固，采用屏蔽设计，抗电磁干扰能力强，防止射频信号外泄与串扰。
  • 安装便捷，可通过法兰固定在设备机架上，适配多种设备布局。
• 应用场景：应用于 AMAT 的 Centura 等系列多腔体蚀刻、沉积设备，用于同时为多个工艺腔体提供射频功率，适配 200mm 和 300mm 晶圆的批量制造工艺。