• 产品名称：射频阻抗匹配器核心组件
• 产品简介：这是半导体等离子体工艺设备中射频系统的关键部件，用于实时调节射频功率传输链路的阻抗，使射频电源与工艺腔体负载之间实现阻抗匹配，最大限度减少功率反射，保障射频能量高效传输至工艺腔体，适配 AMAT 多款等离子体蚀刻与沉积设备。
• 技术规格
  • 适配频率：13.56 MHz，符合半导体主流射频工艺频率标准。
  • 阻抗调节范围：10 Ω - 500 Ω，覆盖工艺腔体负载的阻抗变化区间。
  • 调节精度：±1 Ω，保障阻抗匹配的精准性。
  • 功率容量：最大支持 30 kW 射频功率，适配中高功率工艺需求。
  • 响应时间：≤50 ms，快速响应负载阻抗变化，维持功率传输稳定。
  • 工作温度：0℃至 50℃，适应设备电气仓工作环境。
• 功能特点
  • 自动阻抗调节，无需人工干预，适配工艺过程中负载阻抗的动态变化。
  • 具备功率反射监测功能，当反射功率超过设定阈值时自动切断射频输出，保护电源与腔体部件。
  • 调节过程无电弧产生，保障设备运行安全，避免损坏匹配器内部元件。
  • 模块化设计，安装维护便捷，可快速更换损坏部件，减少设备停机时间。
• 应用场景：应用于 AMAT 的 300mm 等离子体蚀刻机、物理气相沉积设备等，适配逻辑芯片、存储芯片制造中的介质蚀刻、金属沉积等工艺，保障射频功率高效稳定传输。