• 产品名称：气体流量控制器
• 产品简介：这是半导体设备工艺气体输送系统的核心控制部件，用于精准控制单一工艺气体的流量，将气体流量稳定在设定值，保障工艺过程中气体流量的一致性，适配 AMAT 的气体面板与管路系统。
• 技术规格
  • 流量控制范围：1 sccm - 1000 sccm，适配不同工艺的气体流量需求。
  • 控制精度：±0.5% 满量程，保障流量控制的精准性。
  • 响应时间：≤1 秒，快速调整流量至设定值，适配工艺参数变化。
  • 工作压力：0.1 MPa - 0.5 MPa，适配气体输送压力标准。
  • 适用气体：兼容惰性气体、腐蚀性气体、反应性气体等各类工艺气体。
  • 输出信号：4-20 mA 模拟信号，适配设备控制系统信号采集。
• 功能特点
  • 数字式流量控制，支持远程精准调节，可通过设备主控系统实现自动控制。
  • 具备流量超限报警功能，当流量偏离设定范围时及时发出报警信号。
  • 内置温度与压力补偿功能，消除环境因素对流量测量的影响，保障测量精度。
  • 耐腐蚀性强，可长期适配各类工艺气体，无泄漏与污染风险。
• 应用场景：应用于 AMAT 的化学气相沉积、原子层沉积、蚀刻等设备的气体输送系统，控制工艺气体流量，适配 200mm 和 300mm 晶圆的各类工艺需求。