• 产品名称：钛屏蔽罩（Titanium Shield）
• 产品简介：是应用材料半导体设备反应腔中的关键防护部件，由纯钛材料制成，安装在反应腔内部，用于阻挡工艺过程中产生的溅射粒子、反应副产物等附着在腔体壁或其他关键部件上，避免部件污染与损坏，保障晶圆的加工质量，适配特定型号的反应腔结构。
• 技术规格
  • 材质：纯钛（Ti - 99.9%），具备优良的耐腐蚀性与耐高温性，适配半导体工艺环境。
  • 尺寸：直径 250mm，高度 180mm，厚度 2mm，适配 200mm 晶圆反应腔。
  • 耐高温温度：800℃，可承受半导体工艺中的高温工艺环境。
  • 表面处理：喷砂处理，增强表面的抗附着能力，减少反应产物的沉积。
• 功能特点
  • 纯钛材质化学稳定性高，在等离子体环境以及各类腐蚀性气体中，不易发生化学反应，保障自身性能稳定。
  • 可有效阻挡溅射粒子与反应副产物，保护腔体壁及其他部件，降低设备的维护频率与成本。
  • 结构设计合理，便于安装与拆卸，可快速更换，不影响设备的正常运行时间。
  • 热传导性能良好，可快速散热，避免因局部过热导致部件变形。
• 应用场景：主要应用于应用材料的 PVD 设备、刻蚀设备等半导体工艺设备的反应腔中，在晶圆的金属沉积、刻蚀等工艺过程中，保护腔体内部关键部件，同时保障晶圆的加工精度与表面质量。