• 产品名称：铝制内衬（Aluminum Liner）
• 产品简介：是应用材料半导体设备反应腔内部的内衬部件，采用优质铝合金材料制成，用于保护反应腔腔体壁，防止工艺过程中腐蚀性气体、溅射粒子等对腔体的侵蚀与损坏，同时起到一定的隔热与均匀气流的作用，适配于特定型号的反应腔结构。
• 技术规格
  • 材质：5052 铝合金，具备优良的耐腐蚀性与机械强度，适配半导体工艺环境。
  • 尺寸：直径 280mm，高度 220mm，厚度 3mm，适配 200mm 晶圆反应腔。
  • 表面处理：硬质阳极氧化，氧化膜厚度 20μm，增强表面硬度与耐腐蚀能力。
  • 工作温度范围：-50℃ - 300℃，适配半导体工艺中的温度变化。
• 功能特点
  • 可有效阻挡腐蚀性气体与溅射粒子对腔体壁的侵蚀，延长腔体的使用寿命，降低维护成本。
  • 具备一定的隔热性能，减少腔体壁的热量损失，维持反应腔内部的温度稳定。
  • 表面光滑，可减少反应产物的吸附，便于清洁，同时保障工艺环境的洁净度。
  • 安装与拆卸便捷，可快速更换，提高设备的维护效率。
• 应用场景：主要应用于应用材料的刻蚀设备、CVD 设备等半导体工艺设备的反应腔中，在晶圆的刻蚀、薄膜沉积等工艺过程中，保护腔体壁，同时优化反应腔内部的气流分布，保障工艺的均匀性。