• 产品名称：射频匹配网络组件（RF Match Network Assembly）
• 产品简介：是应用材料半导体设备中的射频匹配部件，用于射频电源与反应腔之间的阻抗匹配，确保射频能量高效传输至等离子体，减少能量反射，适配特定型号的半导体刻蚀、沉积设备的射频系统，保障等离子体工艺的稳定运行。
• 技术规格
  • 工作频率：13.56MHz，适配半导体工艺常用射频频段。
  • 阻抗匹配范围：5-50Ω，可快速适配不同等离子体负载阻抗变化。
  • 功率容量：10kW，满足中高功率等离子体工艺需求。
  • 控制接口：采用 RS485 通信接口，可与设备控制系统实时交互数据。
  • 工作温度：0-60℃，适配设备射频系统的工作环境。
• 功能特点
  • 具备自动匹配功能，响应时间小于 100ms，可快速跟踪等离子体阻抗变化，维持稳定的能量传输效率。
  • 内置过功率、过温保护模块，当出现异常情况时，可立即切断射频通路，保护射频电源与匹配网络本身。
  • 采用高品质射频元器件，信号传输损耗小于 0.5dB，保障能量传输效率。
  • 结构设计紧凑，安装空间小，适配设备内部的布局要求。
• 应用场景：主要应用于应用材料的刻蚀设备、PVD 设备等半导体工艺设备中，在晶圆的刻蚀、金属沉积等等离子体工艺过程中，实现射频能量的高效传输，保障工艺的均匀性与稳定性。