• 产品名称：气体质量流量控制器（Mass Flow Controller, MFC）
• 产品简介：是应用材料半导体设备中用于精确控制工艺气体流量的关键部件，可根据设备控制系统的指令，精准调节气体流量，适配多种半导体工艺气体，保障工艺气体流量的稳定性与重复性，适配特定型号的半导体工艺设备的气体输送系统。
• 技术规格
  • 流量测量范围：0-5000 SCCM，测量精度：±1% FS，满足不同工艺的流量需求。
  • 适配气体类型：硅烷、氨气、氧气、氩气等多种半导体工艺气体。
  • 工作压力：0-10bar，可在高压环境下稳定工作。
  • 响应时间：小于 1s，可快速响应流量调节指令。
• 功能特点
  • 采用热式质量流量测量原理，测量精度高，不受气体温度、压力变化的影响。
  • 具备流量校准功能，可定期校准流量测量值，保障长期使用的精度。
  • 内置过流保护功能，当气体流量超过设定值时，可自动切断气体通路，保障设备安全。
  • 支持数字通信接口，可与设备控制系统实时交互数据，实现流量的远程控制与监测。
• 应用场景：应用于应用材料的 CVD 设备、ALD 设备、刻蚀设备等半导体工艺设备中，用于精确控制工艺气体的流量，保障沉积、刻蚀等工艺的均匀性与稳定性。