• 产品名称：石英聚焦环（Quartz Focus Ring）
• 产品简介：是应用材料半导体设备刻蚀工艺中的关键部件，适配 300mm 晶圆，用于聚焦等离子体，保障刻蚀工艺的均匀性与精准性，由高纯石英材料制成，具备优良的耐高温与耐腐蚀性能，适配刻蚀设备的等离子体工艺环境。
• 技术规格
  • 适配晶圆尺寸：300mm，精准匹配 300mm 晶圆工艺。
  • 材质：高纯石英，纯度 99.999%，减少杂质污染。
  • 尺寸：内径 300mm，外径 320mm，厚度 8mm，适配刻蚀设备反应腔。
  • 耐高温温度：1000℃，适配等离子体高温工艺环境。
  • 介电常数：3.8，适配等离子体聚焦需求。
• 功能特点
  • 聚焦等离子体，保障刻蚀工艺的均匀性，提升晶圆刻蚀精度。
  • 高纯石英材质化学稳定性高，可抵御刻蚀工艺中腐蚀性气体与等离子体侵蚀。
  • 表面光滑，减少工艺副产物沉积，便于清洁维护。
  • 结构设计精准，可与晶圆承载台完美配合，保障工艺稳定性。
• 应用场景：应用于应用材料的 300mm 晶圆刻蚀设备，在晶圆的刻蚀工艺过程中，聚焦等离子体，保障刻蚀均匀性与精准性，提升晶圆加工质量。