• 产品名称：工艺气体质量流量控制器（Process Gas Mass Flow Controller, MFC）
• 产品简介：是应用材料半导体设备气体输送系统的核心流量控制部件，用于精准测量并控制 SiH4、NH3 等工艺气体的流量，适配特定型号的气体管路系统，具备数字通信与流量反馈功能，保障工艺气体流量参数的精准稳定，适配各类半导体工艺。
• 技术规格
  • 测量范围：0-5000 SCCM，适配多种工艺气体流量需求。
  • 精度：±1% FS，保障流量控制的精准性。
  • 响应时间：＜1s，快速适配工艺流量调节需求。
  • 适配气体类型：SiH4、NH3、O2 等多种半导体工艺气体，支持气体类型标定切换。
  • 通信接口：RS485，可与设备控制系统实时交互数据。
• 功能特点
  • 采用热式质量流量测量原理，不受气体压力、温度变化影响，测量精准。
  • 具备流量超限报警功能，当流量超出设定范围时，及时触发设备保护机制。
  • 支持远程校准与参数配置，无需拆卸即可完成维护，提升效率。
  • 内置自诊断功能，可实时监测设备运行状态，提前预警故障。
• 应用场景：应用于应用材料的 CVD、ALD、刻蚀等半导体工艺设备的气体输送系统，精准控制工艺气体流量，保障晶圆薄膜沉积、刻蚀等工艺的参数稳定，适配逻辑芯片、存储芯片等制造环节。