• 产品名称：工艺气体过滤器（Process Gas Filter）
• 产品简介：是应用材料半导体设备气体输送系统的关键过滤部件，适配特定型号的气体管路系统，用于过滤 SiH4、NF3 等工艺气体中的微小颗粒杂质，过滤精度高，保障工艺气体的洁净度，防止杂质污染晶圆与反应腔部件，适配各类半导体工艺。
• 技术规格
  • 过滤精度：0.01μm，可过滤工艺气体中微小颗粒杂质。
  • 适配管路口径：1/4 英寸，适配设备标准气体管路尺寸。
  • 材质：壳体为 316L 不锈钢，滤芯为 PTFE，耐腐蚀性能强。
  • 工作压力：0-10bar，满足工艺气体输送压力需求。
  • 工作温度：-20℃ - 80℃，适配设备工作环境。
• 功能特点
  • 滤芯采用折叠式设计，过滤面积大，纳污能力强，使用寿命长。
  • 具备压差报警功能，当滤芯堵塞导致压差超出设定值时，及时提醒操作人员更换滤芯。
  • 密封性能优良，泄漏率小于 1×10^-9 mbar・L/s，保障气体输送的密封性。
  • 安装便捷，可快速拆卸更换滤芯，减少设备停机时间。
• 应用场景：应用于应用材料的刻蚀、CVD、PVD 等半导体工艺设备的气体输送系统，过滤工艺气体中的杂质，保障工艺气体洁净，适配 200mm/300mm 晶圆工艺设备的各类工艺环节。