• 产品名称：工艺气体歧管组件（Process Gas Manifold Assembly）
• 产品简介：是应用材料半导体设备气体输送系统的核心部件，适配 300mm 晶圆工艺设备的气体管路，用于将多种工艺气体集中分配至反应腔，具备多路气体通道与精准流量控制功能，由高纯不锈钢制成，避免污染工艺气体，适配 CVD、ALD 等高精度薄膜沉积工艺。
• 技术规格
  • 气体通道数量：8 路，适配多种工艺气体同时输送需求。
  • 材质：316L 不锈钢，内壁电解抛光，耐腐蚀性能强。
  • 管路口径：1/4 英寸，适配设备标准气体管路尺寸。
  • 工作压力：0-10bar，满足工艺气体输送压力需求。
  • 适配气体类型：SiH4、NH3、O2 等多种半导体工艺气体。
• 功能特点
  • 具备气体通道独立控制功能，可单独调节各路气体流量，适配不同工艺需求。
  • 每个通道配备精密阀门，流量控制精度 ±1%，保障气体流量稳定。
  • 结构紧凑，安装空间小，适配设备内部管路布局。
  • 具备气体泄漏检测接口，便于设备维护时检测泄漏点。
• 应用场景：应用于应用材料的 CVD、ALD 等半导体工艺设备的气体输送系统，集中分配工艺气体，保障晶圆薄膜沉积工艺的气体供应稳定，适配 300mm 晶圆高精度制造工艺。