• 产品名称：射频匹配网络组件。
• 产品简介：是 AMAT 半导体设备等离子体工艺腔室专用射频匹配网络，用于将射频电源输出的阻抗与工艺腔室负载阻抗进行精准匹配，最大化射频功率传输效率，减少功率反射，适配 AMAT 多款刻蚀、PVD 等等离子体工艺设备，是保障等离子体稳定产生与维持的核心电气部件。
• 技术规格
  • 适配射频频率：常用 400kHz、13.56MHz 等半导体工艺标准射频频率。
  • 功率适配范围：适配设备射频电源功率，通常为 0-3000W。
  • 阻抗匹配范围：5-50Ω，可精准匹配工艺腔室动态负载阻抗。
  • 调节方式：自动调节，具备快速阻抗匹配能力，响应时间≤1s。
  • 工作环境：适配真空、高温环境，工作温度范围为 - 10 至 80℃。
• 功能特点
  • 自动阻抗匹配，无需人工干预，可实时跟踪负载阻抗变化并完成匹配，保障功率传输效率。
  • 具备功率反射保护功能，当反射功率超标时自动切断输出，保护射频电源与腔室部件。
  • 适配半导体等离子体工艺的动态负载特性，在工艺过程中保持稳定的阻抗匹配状态。
  • 模块化设计，安装与维护便捷，可快速替换故障模块，减少设备停机时间。
  • 具备与设备控制系统的信号交互功能，实现匹配状态的实时监控与数据反馈。
• 应用场景：安装于 AMAT 刻蚀机、PVD 沉积设备等的等离子体工艺腔室，适配逻辑芯片、存储芯片等晶圆制造过程中的等离子体刻蚀、金属沉积等工艺，保障等离子体密度稳定，提升工艺均匀性与重复性。