• 产品名称：工艺腔室压力传感器（Chamber Pressure Transducer）
• 产品简介：这是一款高精度绝压压力传感器，专门用于半导体工艺腔室的真空压力测量，采用电容式传感原理，可实时、精准监测腔室压力，为工艺控制系统提供闭环压力控制信号，适配 AMAT 多种真空工艺设备。
• 技术规格
  • 测量范围：1×10⁻⁴Torr~1000Torr（绝压）
  • 精度：±0.25% 满量程，非线性误差≤0.1%
  • 输出信号：4-20mA 电流信号，负载电阻≤500Ω
  • 供电电压：24VDC（±10%），功耗≤1W
  • 工作温度：-50℃~125℃，温度漂移≤0.01% FS/℃
  • 接口：KF40 真空法兰，电气接口 M12 航空插头
• 功能特点
  • 抗腐蚀能力强，传感膜片采用陶瓷材质，适配氟基、氯基等腐蚀性工艺环境
  • 响应速度快，上升时间≤50ms，可捕捉腔室压力快速变化
  • 长期稳定性好，年漂移率≤0.1% FS，减少校准频次
  • 具备过压保护功能，最大耐受压力为满量程的 2 倍
• 应用场景：应用于 AMAT Centura 刻蚀腔室、PVD 沉积腔室的真空压力监测，适配半导体晶圆制造中刻蚀、溅射、CVD 等工艺，为工艺压力闭环控制提供精准数据支撑。