• 产品名称：工艺腔室石英内衬
• 产品简介：该部件是 AMAT 工艺腔室的核心内衬件，安装于腔室内壁，起到隔离工艺等离子体与腔室金属本体的作用，防止腔室金属被等离子体刻蚀污染晶圆，同时保护腔室本体，延长腔室使用寿命，适配多种腐蚀性工艺环境。
• 技术规格
  • 材质：高纯合成石英，纯度 99.999%
  • 适配腔室：AMAT 200mm/300mm 工艺腔室
  • 厚度：5-10mm
  • 工作温度：-50℃至 300℃
  • 耐等离子体性：适配氟基、氯基等腐蚀性等离子体
  • 安装方式：卡扣式，便于拆卸更换
• 功能特点
  • 高纯材质避免工艺过程中杂质释放，保障晶圆洁净度。
  • 抗等离子体刻蚀能力强，相比普通石英部件使用寿命提升 30%。
  • 内壁光滑，减少颗粒吸附，降低晶圆污染风险。
  • 适配快速更换设计，减少设备维护停机时间。
• 应用场景：广泛应用于 AMAT 刻蚀机、PECVD 沉积设备的工艺腔室，适配 200mm、300mm 晶圆的氟基刻蚀、硅氧化物沉积等工艺，用于保护腔室本体，防止工艺污染，保障晶圆制程良率，是半导体设备的常用耗材部件。