产品名称：陶瓷工艺腔室内衬环产品简介：高纯度陶瓷材质的腔室保护部件，用于隔离等离子体与金属腔壁，减少腔室污染、提升工艺均匀性，延长腔室维护周期。技术规格
- 材质：高纯度氧化铝 / 氮化铝陶瓷
- 尺寸：适配 300mm 晶圆工艺腔室标准口径
- 表面精度：精密抛光，无划痕、无颗粒
- 绝缘性能：高电阻率，绝缘效果优异功能特点
- 耐等离子体腐蚀，抗化学侵蚀能力强
- 低释气、高洁净度，保障晶圆良率
- 热稳定性好，适应高温工艺环境
- 几何精度高，等离子体约束效果佳
- 与原厂尺寸完全兼容，替换便捷应用场景
- 干法刻蚀工艺腔室
- 高密度等离子体化学气相沉积（HDPCVD）设备
- 先进逻辑与存储芯片制造工艺
- 半导体设备核心易损件更换
AMAT 0200-09761 
AMAT 0200-08347 
AMAT 0200-00262 
AMAT 0190-36349 