产品名称：腔室内壁防护衬套组件产品简介：半导体等离子体工艺腔室的内壁防护部件，采用高纯度合金 / 陶瓷材质，保护腔室金属内壁免受等离子体与工艺气体侵蚀，延长腔室维护周期，降低工艺污染风险。技术规格
- 材质：高纯度钛合金 / 碳化硅陶瓷，耐等离子体腐蚀
- 适配机型：Endura、Centura 系列 PVD / 刻蚀设备
- 结构：一体式精密成型，配合公差≤±0.05mm
- 表面处理：精密抛光，无划痕、无颗粒析出
- 耐热性能：耐受≥500℃工艺温度，不变形功能特点
- 防护效果优异，有效隔离等离子体与腔室内壁
- 耐腐蚀、耐冲刷，使用寿命长
- 安装定位精准，无松动、无偏移
- 低金属污染，适配先进制程工艺
- 与原厂腔室完全兼容，替换便捷应用场景
- 物理气相沉积（PVD）工艺腔室
- 干法刻蚀设备等离子体腔
- 半导体前道制造设备核心腔室
- 设备预防性维护与易损件更换
AMAT 0200-09761 
AMAT 0200-08347 
AMAT 0200-00262 
AMAT 0190-36349 